九一果冻制作厂

microArch S240A 10μm高精度微纳3顿打印系统基于BMF摩方的技术?面投影微立体光刻技术（PμSL）构建，并融入了摩方自主开发的多项技术。摩方PμSL是一种微米级精度的3D光刻技术，这一技术利用液态树脂在UV光照下的光聚合作用，使用滚刀快 速涂层技术大大降低每层打印的时间，并通过打印平台三维移动逐层累积成型制作出复杂三维器件。

摩方超高精度光固化3诲打印机microArch® S230 2μm高精度微纳3顿打印系统，基于BMF摩方的技术?面投影微立体光刻技术（PμSL）构建。全自动水平调节系统：平台自动调平、膜面自动调平、滚刀自动调节三大系统，打印效率提升近50倍。

Exaddon CERES是基于电化学沉积（Electrochemical Deposition）技术推出的微纳金属3顿打印系统，可以在室温下以亚微米级分辨率打印超高精密金属器件，且无需进行后处理。该系统非常适用于生物传感、高频通讯器件、微流控、传热和微机械等领域的创新研究。

九一果冻制作厂复合精度光固化3顿打印机 D1025，复合光学精度：10μm和25μm，打印幅面：100 mm(L)x100 mm(W)x50 mm(H)，极限微尺度复合树脂增材制造设备。

九一果冻制作厂复合精度光固化3顿打印系统microArch® D0210，复合光学精度：2μm和10μm，打印幅面：100 mm(L)x100 mm(W)x50 mm(H)，极限微尺度复合树脂增材制造设备。