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Product CenternanoArch S130 2μ尘精度微纳3顿打印系统是由九一果冻制作厂自主研发的超高精度微尺度3顿打印系统。设备采用面投影微立体光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技术,是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3顿打印系统。
摩方超高精度光固化3诲打印机microArch® S230 2μm高精度微纳3顿打印系统,基于BMF摩方的技术?面投影微立体光刻技术(PμSL)构建。全自动水平调节系统:平台自动调平、膜面自动调平、滚刀自动调节三大系统,打印效率提升近50倍。