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Product CenternanoArch S140 10μ尘精度微纳3顿打印系统是可以实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμSL:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。
nanoArch P140 10μ尘精度微纳3顿打印系统是科研级3顿打印系统,拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚,从而实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
microArch S240A 10μm高精度微纳3顿打印系统基于BMF摩方的技术?面投影微立体光刻技术(PμSL)构建,并融入了摩方自主开发的多项技术。摩方PμSL是一种微米级精度的3D光刻技术,这一技术利用液态树脂在UV光照下的光聚合作用,使用滚刀快 速涂层技术大大降低每层打印的时间,并通过打印平台三维移动逐层累积成型制作出复杂三维器件。
nanoArch® S140 BIO,是一款微纳生物3顿打印设备,配置小液槽(5ml/20ml),搭载加热系统,支持生物墨水/载活细胞生物墨水打印,具有高分辨率,成型速度快,复杂精细结构一次成型的优势。另配置高精度GelMA材料,兼具生物相容性、可降解性、组织相似性、力学调控性及细胞亲和性等特性,可用于构建复杂微观生物组织结构。