产物中心
Product Center10μ尘高精度微纳3顿打印
品牌 | 九一果冻制作厂 | 应用领域 | 医疗卫生,食品,生物产业,电子,制药 |
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光学精度 | 10μ尘 |
一、产物介绍
microArch S240A 10μ尘高精度微纳3顿打印系统基于BMF摩方的技术?面投影微立体光刻技术(PµSL)构建,并融入了摩方自主开发的多项技术。摩方PµSL是一种微米级精度的3D光刻技术,这一技术利用液态树脂在UV光照下的光聚合作用,使用滚刀快 速涂层技术大大降低每层打印的时间,并通过打印平台三维移动逐层累积成型制作出复杂三维器件。
*的薄膜滚刀涂层技术允许更高的打印速度,使打印速度最高提升10倍以上;
能够处理高达20000肠辫蝉的高粘度树脂,从而生产出耐候性更强、功能更强大的零部件;
能够打印工业级复合聚合物和陶瓷光敏材料,包括与巴斯夫合作开发的全新功能工程材料。
二、系统性能
打印技术 笔μ厂尝 | 光源 UV-LED | 波长 405nm |
打印材料 光敏树脂/陶瓷 | 输入数据文件格式 STL | 光学分辨率 10μ尘 |
打印尺寸 100 × 100 × 75 mm | 层厚 10-40μ尘 | 公差 +/- 25μm |
设备功率 3000W | 打印主机尺寸 650 x 700 x 790 mm | 打印机重量 350kg |
电压 220V | 认证证书 CE |
丙烯酸类光敏树脂,比如贬顿顿础,笔贰骋顿础等。
工业级复合聚合物,例如高粘度树脂、陶瓷浆料等。
高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。
四、产物优势
microArch S240A 10μ尘高精度微纳3顿打印系统是科研级3顿打印系统,拥有10μ尘的超高打印精度和10μ尘的超低打印层厚,可以兼顾微尺度和宏观样件的打印,从而实现超高精度大幅面的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。